Установки химического газофазного осаждения CVD
Лабораторные установки химического газофазного осаждения CVD для нанесения покрытий из тугоплавких металлов и соединений (Та, ТаС, Nb, Mo и др.) на плоские образцы (ЛП), на образцы сложной формы (ЛС) и образцы трубчатой формы (ЛТ).
Установки позволяют проводить изучение процессов осаждения высокотемпературных защитных покрытий методами химического парофазного разложения или окисления-восстановления прекурсоров.
Особенностью установок является возможность проведения осаждения тугоплавких соединений с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов цинком и кадмием. Кроме того, установки позволяют осаждать покрытия с помощью восстановления галогенидов тугоплавких металлов водородом, а также с помощью пиролиза, например, металлорганических соединений.
Возможности технологических решений:
- Могут использоваться для низкотемпературного газофазного нанесения покрытий и создания нанопорошков тугоплавких металлов V, Cr, Mo, W, Hf, Zr, Nb, Ta, Re, а также их силицидов, боридов и карбидов.
-
Разрабатываемые технологии пригодны для нанесения беспористых высокоплотных покрытий в безводородных средах на детали сложной формы, в том числе трубчатые,
- с высокой скоростью нанесения. Кроме того, технологические решения позволяют создавать многослойные многофункциональные покрытий, один из слоев которых выполняет функции диффузионного барьера, а другой – защиты.
- При нанесении покрытий используются реагенты и расходные материалы отечественного производства.
Эффект от применения:
Применение перечисленных материалов в виде покрытий позволит существенно снизить удельный вес оборудования, производственные и эксплуатационные затраты, а также повысить качественные характеристики производимых изделий.
Технические характеристики установок ЛП, ЛТ, ЛС:
- максимальная потребляемая мощность - 15 кВт,
- рабочее напряжение силового блока: трехфазная сеть 380 В,
- объемный расход газов-носителей - от 1 до 100 л/час,
- количество каналов подачи газа – 4 (2) шт, расход газов по каналам до 600 мл/мин (по воздуху),
- имеется возможность регулирования скоростей потоков газов,
- нагрев зоны осаждения покрытия на поверхности образца - 300 – 1100°С,
- рабочее давление вакуумной системы лабораторной установки от 10 до 2х105 Па,
- автоматизация процессов осаждения покрытий (компьютерное управление).